真空電鍍設備的真空室能用不銹鋼或者碳鋼組合使用制作，真空電鍍設備做成單開門或者又開門。真空電鍍設備能通過利用電阻加熱，若電阻要加熱，真空電鍍設備所使用的材料包括石墨、鎢、鉭、鉬、鎳鉻等，真空電鍍設備加熱后要進行保溫，真空電鍍設備設置了保溫層就可以提高加熱的效率，以免真空電鍍設備的熱量快速散失，一般有金屬保溫層和復合保溫層兩種形式。

   真空電鍍設備為更好的進行測試、測定室內溫度，真空電鍍設備使用測溫儀器和控溫儀器，避免溫度過高或不達標真空電鍍設備，抽氣系統由各種真空泵及附件按其各自功能組裝使用。PVD真空鍍膜：一般TiN,CrN，TiC，ZrN，電鍍出來的厚度大概是3~5微米。一般情況真空鍍膜的厚度是在設備上測試不出來了。

    光學鍍膜的膜厚測試可以在鍍膜機的中間頂上裝置膜厚測試儀即可。早的是光控測試，現在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震動的頻率來測試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。PVD真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

    需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過蒸發鍍膜設備+所鍍產品圖蒸發鍍膜設備+所鍍產品圖程，終形成薄膜。

    PVD真空鍍的工藝流程一般依次為：前處理及化學清洗（表面打磨拋光噴砂，除銹除油去氧化層）→工件在真空中烘烤加熱→氬離子輝光清洗→金屬離子轟擊→鍍金屬過渡層→鍍膜（通入反應氣體）→后處理（爐內鈍化或出爐后鈍化去應力或防止變色，過UV做防指膜處理等）。